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- PLUTO-M(8L)等離子清洗機/等離子處理機
研究級 實驗室用 多功能桌面型
PLUTO-M型等離子體表面處理系統是針對於高校╃☁☁▩，科學研究所和企業實驗室╃☁☁▩，或者小批次生產的創新性企業而研發的創新型實驗平臺₪••◕。我們收集了大量客戶使用資訊╃☁☁▩，分析應用需求╃☁☁▩，將多年設計和製造經驗應用...
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- PLUTO-T(4.3L)實驗室桌面小型等離子清洗機
小型臺式 桌面型 高性價比
PLUTO-T等離子清洗機具有效能穩定☁₪、價效比高☁₪、操作簡便☁₪、使用成本極低☁₪、易於維護的特點₪••◕。 對各種幾何形狀☁₪、表面粗糙程度各異的金屬☁₪、陶瓷☁₪、玻璃☁₪、矽片☁₪、塑膠等物件表面進行超清洗和改性₪••◕。 完全徹底...
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- Pluto-MD(8L)小型等離子去膠機
等離子去膠機 去膠效果好
去膠工藝是微加工過程中一個重要的過程╃☁☁▩，在電子束曝光╃☁☁▩，紫外曝光等微奈米加工工藝後╃☁☁▩，都要對光刻膠進行去除或打底膜處理₪••◕。光刻膠是否去除乾淨對樣片是否有損傷等問題╃☁☁▩，將直接影響後續工藝的順利完成...
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- Pluto-MC(8L) 真空等離子體塗覆（鍍膜）裝置
等離子塗覆 等離子鍍膜
Pluto-MC利用等離子體改性時╃☁☁▩，將試樣置於特定的離子處理裝置中╃☁☁▩，透過高能態的等離子轟擊試樣的表面╃☁☁▩，將能量傳遞給試樣表層的分子╃☁☁▩，使試樣發生熱蝕☁₪、交聯☁₪、降解和氧化反應╃☁☁▩，並使試樣表面發生C-F鍵和C...
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- PLUTO-30(30L)等離子清洗機
中小型 多功能 清洗 去膠 活化 鍵合
PLUTO-30是專為研發而設計的全功能等離子體系統╃☁☁▩，13.56MHz射頻發生器和自動匹配網路電源在整個過程區域產生均勻的等離子體₪••◕。Pluto30的真空腔可支援多達7個可調節樣品架╃☁☁▩，以容納各種形狀尺寸的樣品₪••◕。...
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- PLUTO-80 等離子清洗機/表面處理系統
等離子清洗機╃☁☁▩，等離子去膠機╃☁☁▩，等離子表面處理機
PLUTO-80是專為研發而設計的全功能等離子體系統╃☁☁▩，13.56MHz射頻發生器和自動匹配網路電源在整個過程區域產生均勻的等離子體₪••◕。Pluto80的真空腔可支援多達7個可調節樣品架╃☁☁▩，以容納各種形狀尺寸的樣品₪••◕。...
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- PLUTO等離子-PDMS微流控表面處理裝置
PDMS╃☁☁▩，等離子清洗機╃☁☁▩，等離子表面處理
高校和研究機構的客戶具有樣品種類多的特點╃☁☁▩，在完成預定實驗的同時╃☁☁▩，還希望具有更多的應用功能和良好的效能而這一切╃☁☁▩，PLUTO-T可以完美實現客戶的不同應用的需求₪••◕。針對PDMS的應用╃☁☁▩，我們已經有很多客...
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- PLUTO-F(14.5L)實驗室方腔等離子清洗機
方形腔體 容量大 小型臺式
PLUTO-F型等離子體表面處理系統是一款功能強大的桌面型表面等離子體裝置╃☁☁▩，非常適合於高校☁₪、科學研究所和企業實驗室╃☁☁▩，或者小批次生產╃☁☁▩，需要低成本運作且高效處理的企業₪••◕。它具備等離子裝置幾乎所有的...
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- PLUTO-MH等離子處理機/等離子去膠機
高配置等離子處理機 清洗活化 接枝
PLUTO-MH型等離子體表面處理系統是針對於高校╃☁☁▩，科學研究所和企業實驗室╃☁☁▩，或者小批次生產的創新性企業而研發的創新型實驗平臺₪••◕。我們收集了大量客戶使用資訊╃☁☁▩，分析應用需求╃☁☁▩，將多年設計和製造經驗應用...
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- PLUTO-ATMOS 常壓等離子塗覆鍍膜系統
等離子表面塗覆 等離子塗層
Pluto-Atmos是一種基於頻率為13.56MHz（射頻）等離子體技術的新型表面塗覆裝置₪••◕。是一種強大的新塗層工藝╃☁☁▩，利用大氣壓等離子體裝置在任何大小或形狀的樣品上透過掃描的方式獲得均勻的塗層₪••◕。Pluto-Atm...
- 400-1521-605
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